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机译:退火温度对射频磁控溅射制备离子导电LLTO薄膜的结构和光电性能的影响
LLTO thin films; RF magnetron sputtering; Ion-conducting; Annealing temperature;
机译:退火温度对射频磁控溅射制备离子导电LLTO薄膜的结构和光电性能的影响
机译:退火温度对高压射频磁控溅射制备的柔性碲化铋薄膜的结构,机械和电性能的影响*
机译:退火温度对射频磁控溅射SnO2:Sb薄膜的晶体结构,生长行为和性能的影响
机译:退火温度对DC磁控溅射制备的Ta_2O_5薄膜结构和光学性质的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)