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机译:开发用于化学沉积铜互连的Co-W-P覆盖层的无碱金属镀液
Co-W-P thin films; Capping layers; Electroless deposition; Microelectronic devices; Microstructure;
机译:开发用于化学沉积铜互连的Co-W-P覆盖层的无碱金属镀液
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机译:电镀铜种子层电镀电镀低电阻率铜互连层的沉积
机译:表面碘层对钽的钝化作用,用于化学镀铜。
机译:单晶超薄均质纳米颗粒层的非真空沉积突破:化学浴沉积和原子层沉积的更好替代方法
机译:使用含铜甲烷磺酸盐浴与硫脲作为稳定剂的碱性铜沉积
机译:酒石酸盐和EDTa基化学镀铜沉积浴的平衡特性