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Self-diffusion of Ni in B2 type intermetallic compound NiAl

机译:Ni在B2型金属间化合物NiAl中的自扩散

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摘要

Combining molecular dynamic (MD) simulation with modified analytic embedded-atom method (MAEAM) potential, the formation, migration and activation energies of Ni self-diffusion in intermetallic compound NiAl have been calculated for five diffusion mechanisms, NNN jump, [110] 6JC, straight [100] 6JC, bent [100] 6JC and triple-defect diffusion. The results show that the Ni self-diffusion is dominated by the triple-defect diffusion mechanism since it requires essentially the lowest migration or activation energy (Q = 2.769 eV) in the five diffusion mechanisms. This is consistent with the conclusion of Frank et al.
机译:结合分子动力学(MD)模拟和改进的解析嵌入原子方法(MAEAM)势,针对五种扩散机理,NNN跃迁,[110] 6JC,计算了金属间化合物NiAl中Ni自扩散的形成,迁移和活化能。 ,直线[100] 6JC,弯曲[100] 6JC和三缺陷扩散。结果表明,Ni自扩散受三缺陷扩散机制的支配,因为它在五种扩散机制中所需的迁移或活化能最低(Q = 2.769 eV)。这与弗兰克等人的结论是一致的。

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