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Trivacancy in silicon: A combined DLTS and ab-initio modeling study

机译:硅中的三空位:DLTS和从头算建模的组合研究

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摘要

Deep level transient spectroscopy and ab-initio modeling have been used for identification of energy levels and structure of trivacancy (V_3) in Si. It is found that in the neutral charge state the V_3 is bistable,with the “four fold” configuration being lower in energy than the (110) planar configuration. V_3 in the (110) planar configuration gives rise to two acceptor levels at E_c0.36 eV and E_c0.46 eV in the gap,while in the “four fold” configuration the defect has trigonal symmetry and an acceptor level at E_c0.075 eV.
机译:深层瞬态光谱法和从头算模型已用于识别Si中的能级和三空位(V_3)结构。发现在中性充电状态下V_3是双稳态的,“四重”构型的能量低于(110)平面构型。 (110)平面配置中的V_3在间隙中的E_c0.36 eV和E_c0.46 eV处产生两个受主能级,而在“四重”配置中,缺陷具有三角对称性并且在E_c0.075 eV处具有受主能级。

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