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Epitaxial 2D SnSe2/ 2D WSe2 van der Waals Heterostructures

机译:外延2D SnSe2 / 2D WSe2 van der Waals异质结构

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摘要

van der Waals heterostructures of 2D semiconductor materials can be used to realize a number of (opto)electronic devices including tunneling field effect devices (TFETs). It is shown in this work that high quality SnSe2/WSe2 vdW heterostructure can be grown by molecular beam epitaxy on AlN(0001)/Si(111) substrates using a Bi2Se3 buffer layer. A valence band offset of 0.8 eV matches the energy gap of SnSe2 in such a way that the VB edge of WSe2 and the CB edge of SnSe2 are lined up, making this materials combination suitable for (nearly) broken gap TFETs.
机译:2D半导体材料的范德华力异质结构可用于实现许多(光电)电子器件,包括隧穿场效应器件(TFET)。这项工作表明,可以使用Bi2Se3缓冲层通过分子束外延在AlN(0001)/ Si(111)衬底上生长高质量的SnSe2 / WSe2 vdW异质结构。 0.8 eV的价带偏移与SnSe2的能隙匹配,使得WSe2的VB边缘和SnSe2的CB边缘对齐,从而使这种材料组合适用于(几乎)断裂间隙的TFET。

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