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MOVPE法によるAlGaN結晶成長の熱流体解析

机译:MOVPE方法对AlGaN晶体生长进行热流分析

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摘要

我々はこれまでにGaNおよびAlNのMOVPE法における反応過程を熱化学流体計算で解析してきた。AlN成長では原料の急激な気相反応が成長を阻害することが判り、今回は同様の問題が考えられるAlGaN結晶に関して成長圧力が10~100 kPaにおける反応過程を熱化学流体計算により解析した。100 kPaでは原料であるトリメチルガリウム(TMGa)、トリメチルアルミニウム(TMAl)およびアンモニア(NH{sub}3)が結晶成長に至る前に急激な気相反応を起こしていることが計算結果から判り、実際の実験においてもAlGaN成長が困難であった。一方、10 kPaの減圧下では原料分子間の衝突頻度が減少して気相反応を抑制できている様子が計算から得られ、AlGaN成膜が容易である状況を解析できた。
机译:我们通过热化学流体计算分析了GaN和AlN在MOVPE方法中的反应过程。在AlN的生长中,发现原料的快速气相反应会抑制其生长,这一次,通过热化学流体计算分析了可能具有相同问题的AlGaN晶体在10至100 kPa的生长压力下的反应过程。在100kPa下,从计算结果可以看出,原料三甲基镓(TMGa),三甲基铝(TMAl)和氨(NH 3)在它们达到晶体生长之前经历了快速的气相反应。在该实验中,AlGaN的生长也很困难。另一方面,通过计算可知,在10kPa的减压下,原料分子之间的碰撞频率降低,并且气相反应被抑制,因此可以分析容易形成AlGaN膜的情况。

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