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【24h】

簡易型クリーンブース「フワクリーン」-究極のパートタイムクリーン化技術

机译:简易清洁房“ Fuwa Clean”-极限兼职清洁技术

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摘要

近年、半導体製造用のクリーンルームでは、いわゆるボールルーム型クリーンルームとミニエンバイロメント(以降、ミニエン)を併用した方式が主流になっている。国際半導体技術ロードマップ(ITRS:図1参照)によると、ウエハ環境はさらなる高清浄化が求められる一方で、クリーンルームの清浄度は積極的に緩和することが求められている。 高度で高価な汚染防止対策をミニエン内部に絞って行うことで、製品の微細化に対応しつつ、建設コストの抑制、建設工期の短縮、省エネルギーおよびクリーンルーム要員のアメニティー向上を図ることが狙いである。一方、メンテナンス環境は、メンテナンス時に高清浄のミニエン内部が低清浄のクリーンルーム空気で汚染される恐れがあるため、クリーンルームより高清浄であることが求められている。メンテナンス時の汚染を抑制し、メンテナンス後の装置の早期立上げ、生産性の向上などを図ることが目的である。そこで、そのニーズに応えるため、必要な時だけ必要な場所へ運んで使うため、移動·組立ての容易さを最重要視したクリーンブースを開発した。 本報では、その簡易型クリーンブース「フワクリーン(商標出願中)」について紹介する。
机译:近年来,在用于半导体制造的洁净室中,结合使用所谓的宴会厅型洁净室和小型环境(以下称为小型环境)的方法已经成为主流。根据《国际半导体技术路线图》(ITRS:参见图1),要求晶片环境必须更加清洁,同时要积极降低洁净室的清洁度。通过关注微型环境中先进且昂贵的防污染措施,其目的是在响应产品小型化的同时降低建设成本,缩短建设周期,节省能源并提高洁净室人员的便利性。 ..另一方面,维护环境需要比洁净室更高的洁净度,因为在维护过程中,高度洁净的小型机内部可能会被洁净度较低的洁净室空气污染。目的是在维护期间抑制污染,在维护后尽早启动设备并提高生产率。因此,为了满足这一需求,我们开发了一个干净的摊位,该摊位将移动和组装的便利性放在首位,以便仅在必要时才将其运送到所需的位置并使用它。在此报告中,我们将介绍简单的清洁展位“ Fuwa Clean(商标申请中)”。

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