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誘電体グレーティングに挟まれた金属薄膜構造の波長特性

机译:夹在介电光栅之间的金属薄膜结构的波长特性

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摘要

誘電体グレーティングに挟まれた金属薄膜構造を,有限差分時間領域法を用いて解析する.グレーティングの充填率(周期長に対する高屈折率層の占める割合)を適切に選択することで,任意の偏波を透過させる.はじめに充填率が1の場合,すなわち一様な誘電体層に挟まれた金属薄膜構造を取り上げる.誘電体層内部でフアプリペロー型の共振が生じる波長1.2μmにおいて,偏波によらず入射波の透過する様子を示す.次に充填率を0.5に選んだ場合について検討する.TM波入射時のみ,回折波によって金属と誘電体の界面に表面プラズモンが励起され入射波が金属膜を透過する.結果として,波長1.5~1.75μmの波長帯域において15dB以上の消光比が得られる.最後に,充填率を0.05に選んだ場合について検討する.TE波入射時のみ,波長0.98μm付近でグレーティング内部に共振が生じ,入射波が金属膜を透過する.
机译:使用时域有限差分法分析了夹在介质光栅之间的金属薄膜结构。通过适当地选择光栅的填充率(高折射率层与周期长度的比率),可以透射任何偏振。首先,让我们考虑填充率为1的情况,即夹在均匀介电层之间的金属薄膜结构。这示出了如何在1.2μm的波长下不考虑偏振地传输入射波,其中在电介质层内部发生了振子型谐振。接下来,考虑将填充率选择为0.5的情况。仅当TM波入射时,表面等离子体激元才在金属和电介质之间的界面处被衍射波激发,并且入射波穿过金属膜。结果,在1.5至1.75μm的波长带中可获得15dB以上的消光比。最后,考虑填充率选择为0.05的情况。仅当入射TE波时,在光栅内部以0.98μm左右的波长发生共振,入射波通过金属膜。

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