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机译:使用晶圆堆叠和Via-last TSV的3D集成CMOS器件
Via-last; TSV; Wafer bonding; Power consumption; Stress; KOZ;
机译:使用晶圆堆叠和Via-last TSV的3D集成CMOS器件
机译:通过直接氧化物粘接和通孔 - 最后3-D互连通过直接氧化物粘接和通过最后3-D互连的非均相集成
机译:使用集成了45 nm高性能SOI-CMOS嵌入式DRAM技术的Cu TSV的三维晶圆堆叠† sup>
机译:通过使用晶片堆叠和最后通孔TSV技术制造3D集成CMOS器件
机译:具有通过RPECVD制备的堆叠氧化物/氮化物和氮氧化物栅极电介质的CMOS器件的故障和可靠性。
机译:用于气体传感设备的CMOS集成微热板的原位温度测量
机译:采用TsV集成45nm高性能sOI-CmOs嵌入式DRam技术的三维晶圆堆叠