Эволюция состояния поверхности вольфрама при воздействии экстремальных потоков энергии в установках Плазменный фокус

摘要

Представлены результаты облучения вольфрама, приготовленного с применением двойной ковки, импульсными потоками ионов дейтерия и высокотемпературной дейтериевой плазмы в трёх установках Плазменный фокус. Облучение проводили в установках Вога, РF-1000 и РР-6 при плотности мощности потока дейтериевой плазмы на мишени q = 10~8 - 10~(10) Вт-см~(-2) и длительности импульсного воздействия т ≈ 100 не, а также при плотности мощности пучка быстрых (~ 100 кэВ) дейтронов q= 10~(11) - 10~(12) Втсм~(-2) с длительностью импульса т ≈10 - 50 не. Исследована повреждаемость и эрозия поверхности W, ее элементный состав и структурное состояние поверхностного слоя после экстремальных энергетических воздействий в сопоставляемых условиях облучения. Полученные результаты обсуждаются в свете предполагаемого использования вольфрама в установках управляемого ядерного синтеза.