Электронно-микроскопические исследования приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO_2(Y) - Аl_2O_3 модифицированных сильноточным пучком низкоэнергетических электронов

摘要

Методом сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) изучено действие сильноточного импульсного пучка низкоэнергетических электронов (СИПНЭ) на структурное состояние приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO_2(Y) - Аl_2O_3 с различным уровнем пористости. Показано, что электронная обработка приводит к плавлению и последующей кристаллизации приповерхностного слоя керамики толщиной 30 - 40 мкм. Проведен СЭМ анализ микроструктуры поверхности и поперечного сечения модифицированных электронным пучком слоев керамических образцов. Показано, что в облученном приповерхностном слое всех исследованных типов керамики поры и зерна корундовой фазы практически отсутствовали. Обнаружено, что облучение электронным пучком керамических материалов приводит к уменьшению размера зерен и формированию текстуры в их приповерхностных слоях.