ArF液浸用レジストのC_（60）イオンビームを用いたXPS深さ方向状態解析

摘要

C_（60）イオンスパッタを用いたXPSによる深さ方向解析により，ArF液浸レジスト中のフッ素ポリマー分布を調べた結果を述べた。 これまでは推測の段階で留まっていたブレンド品と共重合品のフッ素ポリマー分布の違いが，本法を用いることにより初めて明らかになり，撥水特性との関係も解明された。 また，XPSによる深さ方向分析の従来法であるArイオンスパッタ法および角度分解法，斜め切削法との比較を行い，C_（60）イオンスパッタ法がレジスト膜のような数百nmレベルの膜厚の深さ方向解析には格段に優れていることが確認された。 さらに，C_（60）イオンスパッタ法は短時間測定が可能であること，簡便であることから，企業の研究開発における分析にも適した方法と言える。 特に測定時間の短縮は，XPS分析における試料損傷の影響を抑制できることから，有機材科の深さ方向分析データの質の向上に繋がることも期待される。 なお，C_（60）イオンスパッタ法の適用には，材科によっては試料損傷の程度が大きく変わるため注意が必要であるが，ここで調べたようなレジスト材科についてはその影響は無視できる程度であった。