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高さ調節可能なリテーナ機構を用いた新揺動研磨法

机译:使用高度可调固定器机构的新型摇摆抛光方法

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摘要

小形工具を用いる大口径ウエハの揺動研磨では,外周部を研磨するために,工具をウエハからはみ出させることが必要となる.この時発生するウエハ外周部の過大な圧力を抑制するために,高さ調節可能なリテーナ機構を用いる新しい揺動研磨法を考案した.この機構によりウエハ外周部の過剰研磨を抑えると同時に,揺動範囲を最適化することによりウエハ全面で銅膜の加工均一性±5%以下を達成した.シミュレーションでは,はみ出し時の傾斜圧力分布が実験結果とよく一致することを示すとともに,工具回転数が大きい領域においては,静的な条件で測定した相対弾性定数と比べて,数倍大きい動的相対弾性定数を適用することにより研磨形状は実験とよく一致し,このことから工具回転数が大きい程,ポリシヤは硬く作用することを明らかにした.
机译:在使用小工具对大直径晶片进行摇摆抛光时,需要使工具从晶片突出,以抛光外周部。为了抑制此时在晶片外周上产生的过大压力,我们设计了一种新的摇摆抛光方法,该方法使用了高度可调的保持器机构。该机构抑制了晶片的外周的过度抛光,并且同时,通过优化摆动范围,晶片的整个表面上的铜膜的加工均匀性为±5%或更小。仿真表明,突出时的倾斜压力分布与实验结果吻合良好,在工具转速较大的区域,其动态相对值是静态条件下测得的相对弹性常数的几倍。通过施加弹性常数,抛光形状与实验良好吻合,并且由此可以清楚地表明,随着工具旋转速度的提高,抛光器的作用更大。

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