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自転/公転型研磨法の新提案と高精度形状研磨の基礎研究

机译:旋转/旋转式抛光方法的新建议和高精度形状抛光的基础研究

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摘要

遊離砥粒研磨において,非球面金型等の加工のため安定的な研磨除去量と仕上げ面粗さ向上の確保が必要とされている.本研究では,パイプ状研磨ツールを用いて,ツールの端面を加工面に接触させ,ツールの軸線を加工面法線と一定の角度に保ち,ツールが軸線周りに回転する自転運動と加工面の中心に通る法線の周りに回転する公転運動を同時に実現させる新しい自転/公転型研磨法を提案した.この手法は,研磨中にツールの形状が安定的に維持でき,研磨エリア内の速度分布により研磨面粗さも一様にできる.本報では,まず自転/公転型研磨法の原理を紹介し,数値計算によりツール形状の検討を行った.また,簡易的な実験方法による自転/公転型研磨法の研磨特性の検証を行い,自転/公転型研磨ユニットの試作を行った.最終的に試作した自転/公転ユニットによる研磨実験を行い,基礎的な研磨特性を確認した.
机译:在自由磨粒抛光中,必须确保稳定的抛光去除量和改善的用于加工非球形模具等的最终表面粗糙度。在这项研究中,使用了管状抛光工具使工具的端面与机加工表面接触,使工具的轴线与机加工表面的法线保持恒定角度,然后围绕轴线旋转工具并旋转机加工表面。我们提出了一种新的旋转/旋转式抛光方法,该方法同时实现了绕通过中心的法线旋转的旋转运动。利用这种方法,可以在抛光期间稳定地保持工具的形状,并且可以通过在抛光区域中的速度分布来使被抛光表面的粗糙度均匀。在本报告中,我们首先介绍了旋转/旋转式抛光方法的原理,并通过数值计算检查了刀具形状。我们还使用简单的实验方法验证了旋转/旋转式抛光方法的抛光特性,并制作了旋转/旋转式抛光单元的原型。我们使用最终原型的旋转/公转单元进行了抛光实验,并确认了基本抛光特性。

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