Описана лабораторная установка прямого ионного осаждения, предназначенная для получения пленок карбида кремния в условиях конденсации ионов углерода и кремния с энергией ≥100 эВ. В установке использован оригинальный вакуумно-дуговой источник углеродно-кремниевой плазмы с протяженным катодом и неоднородным магнитным полем. Изложены конструктивные особенности плазменного источника, приведены основные технологические характеристики установки и режимы получения нанокристаллических пленок карбида кремния.
展开▼