クリーンルーム：空気中のケミカル成分除去エアワッシャ

摘要

半導体製造用途等のクリーンルームでは、導入される外気中に含まれる塵埃だけではなくガスを含めた各種化学物質を除去する必要がある。 この要求は半導体の集積度が上がるにつれて厳しくなってきている。 化学物質の除去対策としては、一般にケミカルフィルタが用いられ、外気中の硫黄酸化物（SO{sub}2 等）、アンモニア（NH{sub}3）、窒素酸化物（NO、NO{sub}2 等NO{sub}x）、有機物質等が除去される。 しかし、このケミカルフィルタが高価であること、寿命が短いこと、及び使用後に産業廃棄物になることから、他の対策やケミカルフィルタの長寿命化が求められていた。 この対策として、ケミカル成分除去に特化したエアワッシャを紹介する。