ナノインプリント技術の研究動向

摘要

ナノインプリントは、光ディスク製作ではよく知られているエンボス技術を発展させ、その解像性を高めた技術であり、凹凸のパターンを形成したモールドを、基板上のポリマなどへ押し付けパターンを転写するものである。 この技術を光素子や半導体素子あるいは、ナノ構造材料形成など新たな応用へ展開しようとする試みであり、10 nmレベルのナノ構造体を安価に大量生産でき、かつ高精度化が可能となり得る技術として近年注目を浴びている。