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新しいプラズマ反応場の開発--パルス変調高周波熱プラズマ

机译:新型等离子体反应场的发展-脉冲调制高频热等离子体

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摘要

高周波プラズマの発生に時間制御の考えを導入しました。パルス的に高周波電力の供給をオン、オフすることにより、プラズマの超高温場と低温場をミリ秒の時間オーダーで交互に実現する特異な反応場を実現することができました。 大気圧付近で発生する熱プラズマは、10,000℃以上の高温と化学的に高活性な状態を有しています。 熱プラズマの発生法の中で、高周波誘導熱プラズマは無電極放電であるため、不純物の影響のない多様な(酸化·還元·不活性雰囲気の)高温反応場を提供し、高融点金属やセラミックスの溶融·球状化、スプレーコーティング、薄膜合成、超微粒子合成など多様な材料製造プロセスへ応用されてきました。
机译:我们将时间控制的思想引入了高频等离子体的产生中。通过以脉冲方式打开和关闭高频电源,我们可以实现一个独特的反应场,该反应场可以在毫秒级的时间内交替实现等离子体的超高温场和低温场。在大气压附近产生的热等离子体具有10,000℃以上的高温和化学上高活性的状态。在产生热等离子体的方法中,高频感应热等离子体是无电极放电,因此它提供不受杂质影响的各种高温反应场(氧化,还原,惰性气氛)以及难熔金属和陶瓷。它已应用于各种材料制造过程,例如熔融和球化,喷涂,薄膜合成和超细颗粒合成。

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