首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告. 電子デバイス. Electron Devices >Siショットキーバリアダイオードを集積化したGaNトランジスタによるDC-DCコンバータの高効率動作
【24h】

Siショットキーバリアダイオードを集積化したGaNトランジスタによるDC-DCコンバータの高効率動作

机译:集成有Si击键键垒二极管的GaN晶体管可实现DC-DC转换器的高效运行

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

低電圧DC-DCコンバータ用途として、Siショットキーバリアダイオード(SBD)を集積化したノーマリオフGaNトランジスタを提案した。AlGaN/GaNへテロ接合を結晶成長するSi基板内にSBDを形成し、これを同Si基板上に形成したノーやリオフ方GaN-GIT (Gate Injection Transistor)とビアホールを介して接続した。Si-SBDは、GaN-GITのダイオードモードよりも低い順方向電圧を有するため、DC-DCコンバータにおけるローサイド側トランジスタ側に流れる還流電流が原因で生じるデッドタイム損失を低減することが出来る。GaN-GITのゲート長を0.5μmと短縮し、さらにSi-SBDを集積化したデバイスを作製し、これをDC-DCコンバータに適用した。この結果12Vを1.3VにDC変換した場合、2MHzにおいて89%の高効率動作を実現した。
机译:对于低压DC-DC转换器应用,我们提出了一种具有集成Si Shotkey势垒二极管(SBD)的常关型GaN晶体管。在其上晶体生长有AlGaN / GaN异质结的Si衬底中形成SBD,并将其经由通孔连接到形成在Si衬底上的无或关断GaN-GIT(栅极注入晶体管)。由于Si-SBD的正向电压比GaN-GIT的二极管模式的正向电压低,因此可以减少由流到DC-DC转换器中低端晶体管侧的再循环电流引起的停滞时间损失。 GaN-GIT的栅极长度缩短到0.5μm,制造了集成Si-SBD的器件并将其应用于DC-DC转换器。结果,当从12V到1.3V的DC转换时,在2MHz时实现了89%的高效工作。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号