高繰り返し、高平均出力LD励起固体レーザーの開発

摘要

次世代半導体露光技術として注目されている極端紫外線(EUV)光源露光技術の開発が進められている。 EUV発生には、放電プラズマまたはレーザー生成プラズマを用いる2つの方法が提案されている。 レーザー生成プラズマ法では、数ナノ秒の高ピークレーザーを数kHzで発生させる必要がある。 我々は、このようなレーザー装置を実現するために、5kW (1J/5kHz)の固体レーザー装置の開発を進めている。 Fig.1にシステムの全体構成を示す。 種光の安定供給と制御性を考慮して、フロントエンドにはファイバー発振器を用いている。 発振器から出た光は再生増幅器により5Wまで増幅された後、4mmφのCWLD励8台の12mmφロッド増幅器により5kWまで増幅される。 段間にはスペーシャルフィルターを配置し、熱レンズ補償とイメージ転送を行い、ビーム品質の劣化を抑制している。 ここでは、主増幅器の励起分布の均一化と動作特性について述べる。