【24h】

バリア性能の向上

机译:改善阻隔性能

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摘要

コーティング技術の中でもドライプロセス,すなわち気相でコーティングする方法は複数の元素からなる材料の構造をナノレベルで制御し合成できるため,あらゆる分野で実用化されてきている.コーティングによって,高硬度,耐磨耗性,摺動性,耐化学性,高バリア性の付与の他,アモルファスシリコン,化学センサ等の高機能性を付加することができる.ドライプロセスの2手法であるCVD (Chemical Vapor Deposition)法およびPVD(Physical Vapor Deposition)法は,真空装置を用いた低圧コーティング法が一般的である.低圧下では不純物の混入が少なく,また活性種同士の衝突頻度が少ないため,比較的容易に良質な薄膜を得ることができる.
机译:在涂覆技术中,由于可以在纳米水平上控制和合成由多种元素组成的材料的结构,因此干法即气相涂覆方法已经在所有领域中得到实际应用。该涂层可以提供高硬度,耐磨性,滑动性,耐化学性和高阻隔性能,以及高功能性,例如非晶硅和化学传感器。作为干式工艺的两种方法,CVD(化学气相沉积)法和PVD(物理气相沉积)法通常是使用真空装置的低压涂覆法。在低压下,杂质很少混合,活性物质之间的碰撞频率低,因此可以相对容易地获得高质量的薄膜。

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