Эллипсометрическая Экспресс-методика определения толщинЫ и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO_2/Si(100)

И.А Тарасов; Н.Н. Кось?рев; С.Н. Варнаков; С.Г. Овчинников; С.М. Жарков; В.А. Швец; С.Г. Бондаренкo; О.Е. Терещенко

首页> 外文期刊>Журнал технической физики >Эллипсометрическая Экспресс-методика определения толщинЫ и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO_2/Si(100)

【24h】

Эллипсометрическая Экспресс-методика определения толщинЫ и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO_2/Si(100)

机译：椭偏快速法测定Fe / SiO_2 / Si（100）纳米结构生长过程中光学常数的厚度和轮廓

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

获取外文期刊封面封底 >>

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

Разработан и реализован алгоритм, позволяющий проводить эксперсс-контроль толщинь? и оптических постояннь?х структур в процессе роста. Проведена апробация алгоритме на структурах Fe/SiO_2/Si(100), полученных в установке молекулярно-лучевой зпитаксии ?Ангара". Значення толщин пленок, рассчитанные в ходе их роста, сравненн с даннь?ми рентгеноспектрального флуоресцентного анализа и просвечйвающей злектронной микроскопии.

机译：已经开发并实施了一种算法，可以对厚度进行专家控制？和生长过程中结构的光学常数。该算法在安加拉分子束辐射吸收装置中获得的Fe / SiO_2 / Si（100）结构上进行了测试，将其生长过程中计算出的膜厚值与X射线光谱荧光分析和透射电子显微镜的数据进行了比较。

著录项

来源
《Журнал технической физики》 |2012年第9期|共5页
作者
И.А Тарасов; Н.Н. Кось?рев; С.Н. Варнаков; С.Г. Овчинников; С.М. Жарков; В.А. Швец; С.Г. Бондаренкo; О.Е. Терещенко;
展开▼
作者单位

展开▼
收录信息
原文格式 PDF
正文语种 rus
中图分类物理学;
关键词

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Density relative change and interface zone mutual diffusion of BiFeO_3 films prepared on Si (100), SiO_2 and SiO_2/Si (100) [J] . RenZheng Xiao, ZeSong Wang, XianBao Yuan, Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. B, Beam Interactions with Materials and Atoms . 2016,第octa1期

机译：在Si（100），SiO_2和SiO_2 / Si（100）上制备的BiFeO_3薄膜的密度相对变化和界面区相互扩散
2. Impact of strain on the passivation efficiency of Ge dangling bond interface defects in condensation grown SiO_2/Ge_xSi_(1-x)/SiO_2/(100)Si structures with nm-thin Ge_xSi_(1-x) layers [J] . O.Madia, A.P.D.Nguyen, N.H.Thoan, Applied Surface Science . 2014,第feba1期

机译：应变对凝结生长具有纳米厚度Ge_xSi_（1-x）层的SiO_2 / Ge_xSi_（1-x）/ SiO_2 /（100）Si结构的Ge悬空键界面缺陷的钝化效率的影响
3. Multi-frequency electron spin resonance analysis of interfacial Ge dangling bond defects in condensation-grown (100)Si/SiO_2/Si_(1-x)Ge_x/SiO_2 [J] . A Stesmans, P Somers, V V Afanasev Semiconductor science and technology . 2013,第1期

机译：缩合生长的（100）Si / SiO_2 / Si_（1-x）Ge_x / SiO_2界面Ge悬挂键缺陷的多频电子自旋共振分析
4. High-frequency properties of multilayer systems based on the (Co_(41)Fe_(39)B_(20))X(SiO_2)_(100-x) and (Co_(45)Fe_(45)Zr_(10))_x(Al_2O_3)_(100-x) nanocomposites [C] . Haider Al Azzawi, Yuri Kalinin, Alexander Sitnikov, Moscow International Symposium on Magnetism . 2015

机译：基于（CO_（41）FE_（39）B_（20））x（SIO_2）_（100-x）和（co_（45）fe_（45）zr_（10））_ x的多层系统的高频特性（AL_2O_3）_（100-x）纳米复合材料
5. Optical Feedback Effects Within 1.55 μm InP-Based DFB Laser Integrated Mach-Zehnder Modulators for up to 100 GBd Data Transmission =Optische Rückkopplungseffekte in 1.55 μm InP-basierten DFB Laser integrierten Mach-Zehnder Modulatoren für bis zu 100 GBd D [D] . Lange, Sophie Gloria. 2019

机译：基于1.55μm的INP的DFB激光集成Mach-Zehnder调制器的光学反馈效果高达100 GBD数据传输=1.55μm基于INP的DFB激光器集成Mach-Zehnder调制器中的光学反馈效果最多100 GBD D.
6. Observational study on Swedish plaque psoriasis patients receiving narrowband-UVB treatment show decreased S100A8/A9 protein and gene expression levels in lesional psoriasis skin but no effect on S100A8/A9 protein levels in serum [O] . Albert Duvetorp, Jan Söderman, Malin Assarsson, -1

机译：瑞典斑块状牛皮癣患者接受窄带-UVB治疗的观察性研究表明病变型牛皮癣皮肤中S100A8 / A9蛋白和基因表达水平降低但对血清中S100A8 / A9蛋白水平没有影响
7. Dissipationless Anomalous Hall Current in $Fe_{100-x}(SiO_2)_x$ Films [O] . Xu, W. J., Zhang, B., Wang, Z., 2010

机译：$ Fe_ {100-x}（siO_2）_x $ Films中的无耗散异常霍尔电流
8. Superfund Record of Decision (EPA Region 10): Hanford Area (USDOE), 100-IU-1, 100-IU-3, 100-IU-4 and 100-IU-5 Operable Units, Benton County, WA., February 2, 1996 [R] . 1997

机译：超级基金决策记录（Epa地区10）：汉福德地区（UsDOE），100-IU-1,100-IU-3,100-IU-4和100-IU-5可操作单位，2月2日，华盛顿州本顿县，1996年

Эллипсометрическая Экспресс-методика определения толщинЫ и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO_2/Si(100)

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅