首页> 外文期刊>计测と制御 >低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中の基板温度計測技術
【24h】

低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中の基板温度計測技術

机译:低相干干涉仪在等离子体处理过程中的基板温度测量技术

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

本解説では,低コヒーレンス干渉計を用いた基板裏面から表面までの被加工面層を含む各層の温度変化を向時に計測可能な手法について述べる.2章では,一般的に用いられている基板温度センサや,現在研究が進められている手法について紹介する.3章では低コヒーレンス干渉計を用いた基板温度計測の原理,4章では低コヒーレンス干渉計を用いた温度計測システムの構成,5章では本計測手法を用いた基板温度計測の結果について述べる.
机译:在该说明中,我们描述了一种方法,该方法可以使用低相干干涉仪测量包括待处理表面层在内的各层从基板的背面到正面的温度变化。第2章介绍了目前正在研究的常用基板温度传感器和方法。第3章介绍了使用低相干干涉仪进行基板温度测量的原理,第4章介绍了使用低相干干涉仪进行温度测量系统的配置,第5章介绍了使用此测量方法进行基板温度测量的结果。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号