最先端X線技術：X線反射率法

摘要

すでに見てきたように，Ⅹ線反射率法は，表面や薄膜を研究するための非常に便利なツールである．他の方法との比較では，表面に露出していない「埋もれた」ナノ構造を非破壊的に解析できることが最大の利点であろう．標準的なⅩ線反射率の測定は，通常の実験室系でも実施できるが，ラフネスや薄膜界面での拡散等の詳細な検討を行うためには，今後，Ⅹ線反射率法の拡張，すなわち散漫散乱（あるいは反射小角散乱とも呼ばれる）を含めた統合的な解析が必要であり，そのためには，放射光利用が望ましい．高エネルギー加速器研究機構·放射光研究施設では，ビームライン機器を利用する研究者の交流や新規参入研究者への情報提供を行うための連絡組織（PF懇談会Ⅹ線反射率ユーザーグループ~（30)））もできていて，ほぼ毎年ワークショップを開催しているほか，ナノテクノロジーの諸問題に関連する研究のための実験ステーション計画等の検討も行っている．関心のある方には，一度連絡されることを薦める．本稿では触れることができなかったが，Ⅹ線反射率法のこれからのトレンドとしてもう1つ重要なのはリアルタイム計測技術による化学反応等の解析である．このような実験には，試料や光学系をまったく動かさずにⅩ線反射率のプロファイルを測定する必要がある~(31）)．このような研究にも放射光の利用が非常に重要な役割を果たすと考えられる．