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シリコンにレーザー照射、ドットを配列制御する手法を開発―ナノドットを安価につくれる製法として期待―

机译:开发了通过激光照射硅并控制点的排列的方法-有望以低成本生产纳米点的制造方法-

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摘要

北海道大学と日立製作所、高エネルギー加速器研究機構の共同グループは、シリコン表面にレーザーを照射してナノメートル寸法のドットを自己組織的に配列する手法を開発した。さらに、高圧の電子顕微鏡を使ってその様子をリアルタイムで観察した。ナノドットを安価につくれる簡便な製法として、次世代の低消費電力LSIや量子ドット太陽電池などの高機能素子の開発に役立てる。
机译:北海道大学日立有限公司和高能促进剂研究组织的联合小组开发了一种用激光照射硅表面以自组织纳米尺寸点的方法。此外,使用高压电子显微镜实时观察到这种情况。作为一种可以低成本生产纳米点的简单制造方法,它将用于开发高性能元件,例如下一代低功耗LSI和量子点太阳能电池。

著录项

  • 来源
    《工業材料》 |2011年第1期|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工程材料学;
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