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世界初!反転層型ダイヤMOSFETの動作実証に成功

机译:世界首创!成功演示倒置层型金刚石MOSFET的操作

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摘要

金沢大学理工研究域電子情報学系の松本巽助教、徳田規夫准教授らの研究グループ(薄膜電子工学研究室)は、国立研究開発法人産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センターダイヤモンドデバイス研究チームの山崎聡招へい研究員、加藤宙光主任研究員、株式会社デンソーの小山和博担当課長らとの共同研究により、世界で初めてダイヤモンド半導体を用いた反転層チャネルMOSFETを作製し、その動作実証に成功した。
机译:金泽大学科学技术研究区电子信息学系副教授Tatsumi Matsumoto教授和副教授Norio Tokuda的研究组(薄膜电子工程实验室)是国家工业技术研究所先进功率电子学研究中心金刚石设备研究小组的成员。通过与山崎聪,高级研究员Soramitsu Kato以及Denso Co.,Ltd.经理Kozuhiro Kayama的共同研究,我们生产了世界上第一个采用金刚石半导体的倒层沟道MOSFET,并成功地演示了其工作原理。

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