...
机译:阴离子表面活性剂,用于193 nm光刻中的缺陷抑制-椭偏和流电势测量研究吸附过程
193-nm-Lithography; Anionic surfactant; Blob defects; Ellipsometry; Zeta potential;
机译:阴离子表面活性剂,用于193 nm光刻中的缺陷抑制-椭偏和流电势测量研究吸附过程
机译:用突尼斯粘土作为吸附剂去除纺织工业的废水中的阴离子染料。 ▍ETA潜力和流媒体诱导的潜在测量
机译:通过吸附阴离子表面活性剂/聚合物混合物,在α-氧化铝表面之间进行直接力测量
机译:Jaranan Wood(Lannea Coromandelica)多孔碳及其对阴离子表面活性剂吸附的性能
机译:阴离子表面活性剂在聚苯乙烯胶乳表面上的吸附。
机译:PEG1500-12-乙酰氧基硬脂酸酯表面活性剂在磷脂双层膜上的吸附研究:椭圆光度法和低温TEM研究
机译:用突尼斯粘土作为吸附剂去除纺织工业的废水中的阴离子染料。 ▍ETA潜力和流媒体诱导的潜在测量