スパッタ·コンビナトリアル成膜法による蛍光体薄膜の作製及び薄膜EL素子への応用

摘要

蛍光体薄膜の開発に対して極めて有用な新規な薄膜作成技術として、分割粉末ターゲットを用いるスパッタ·コンビナトリアル成膜法を提案した。 一例として、本成膜法をZn{sub}2Si{sub}(1-x)Ge{sub}xO{sub}4:Mh蛍光体薄膜の作製に適用し、エレクトロルミネッセンス(EL)及びフォトルミネセンス(PL)に対する最高強度を得るための母体中のGeの含有量及び発光中心であるMh含有量をぞれぞれ1回の成膜プロセスで最適化できた。 最適条件下で作製されたZn{sub}2Si{sub}(1-x)Ge{sub}xO{sub}4:Mn薄膜EL素子において、1kHz及び60HZ正弦波交流電圧駆動時にそれぞれ11800及び1536cd/m{sup}2 の高輝度緑色発光を実現した。