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有機ホウ素化合物の二光子吸収特性を利用した積層導波路型光メモリ

机译:利用有机硼化合物的双光子吸收特性的层叠波导型光存储器

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摘要

二光子吸収効率の向上を目的としてフェニル基(フェニレン型)およびチェニル基(チェニレン型)を導入した有機ホウ素ポリマーを用いて積層導波路型の記録媒体を作製し、光記録とCCDを用いた新たな再生方法を試みた。単層記録媒体の実験ではフェニレン型では200nJ、チェニレン型では17nJでの光記録が可能であった。また、チェニレン型の有機ホウ素ポリーを用いて積層導波路型の三層媒体を作製し、光記録を行ったところ、選択した各層に対して正確に光記録が可能であった。さらに、各コア層に対し選択的に再生光を入射することで、導波した層のみから記録ピットの読み出しが可能であり、2次元ビットマップとしてCCDによる撮像に成功した。本実験で得られた結果は二光子吸収型3次元光メモリの可能性を大きく示すものである。
机译:使用有机硼聚合物制备了层叠波导型记录介质,其中为了提高双光子吸收效率的目的引入了苯基(亚苯基型)和基(亚苯基型),并使用了一种采用光学记录和CCD的新型记录介质。我尝试了一种新的播放方法。在单层记录介质的实验中,亚苯基型能够以200nJ进行光学记录,而亚二甲苯基类型能够以17nJ进行光学记录。此外,当使用亚乙烯型有机硼聚制备层压波导型三层介质并且进行光学记录时,对于每个选择的层都可以进行精确的光学记录。此外,通过将再生光选择性地注入到每个芯层中,可以仅从波导层读出记录凹坑,并且成功地将CCD用作二维位图来成像。在该实验中获得的结果极大地表明了两光子吸收型三维光学存储器的可能性。

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