限界高電位アノード酸化によるポーラスアルミナ皮膜の形成及び微細構造

摘要

アノード酸化により形成した多孔質アルミナ皮膜が特有なナノレベルの細孔を有するため、鋳型として様々なナノ構造体の作製に重要な役割になっている。 我々は、これまでの研究で、高純度AlをITO付きガラス坂上に蒸着して、アノード酸化技術を利用し多孔質アルミナナノ構造体を形成した。 この構造体を担体または鋳型として、ゾルーゲル法または電気めっきによりガラス基板上にTiO_2系ナノチューブあるいはNi、Fe-Pt合金、及びTiO_2-Ru複合物のナノワイヤー配列構造体の作製に成功した。 今回の発表では、多孔質アルミナ皮膜のさらなる実用化を考慮し、セルサイズ領域の拡大および規則化のアルミナナノ構造体を目指して、各種アノード酸化溶液と限界高電位を中心とした酸化条件を探索し、多孔質アルミナ皮膜の作製と微細構造について述べる。