首页> 外文期刊>材料と環境 >表面分析法AES,XPS,TOF-SIMSの最近の進歩と腐食分析への応用
【24h】

表面分析法AES,XPS,TOF-SIMSの最近の進歩と腐食分析への応用

机译:表面分析方法AES,XPS,TOF-SIMS的最新进展及其在腐蚀分析中的应用

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

固体表面の原子·分子レベルの化学情報が得られるオージュ電子分光法(AES),X線光電子分光法(XPS),飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)は,固体表面がその特性に深くかかわる材料?デバイスの研究開発および品質保証などの故障解析に欠かせない分析手法として広く利用されている.本稿では,それぞれの手法の最近における分析性能の進歩のなかから,特に高感度化と微小化,イオン源の改善に伴う深さ方向分析の進歩を中心に,最新の分析装置の特徴を紹介するとともに,腐食·防食関連の応用事例を紹介する.
机译:奥格电子能谱(AES),X射线光电子能谱(XPS)和飞行时间二次离子质量分析(TOF-SIMS)可以在固体表面获得原子和分子级的化学信息,并以固体表面为表面。它被广泛用作故障分析中必不可少的分析方法,例如与特性和质量保证密切相关的材料和设备的研发。在本文中,我们将介绍最新分析仪的功能,重点介绍由于灵敏度,小型化和离子源的改进而引起的深度方向分析的进展,以及每种方法的分析性能的最新进展。此外,我们将介绍与腐蚀和腐蚀防护有关的应用示例。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号