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昭和電工、阪大の次世代半導体実装プロジェクトで成果、アルミニウム製パワー半導体用冷却器の技術で貢献

机译:昭和电工在大阪大学的下一代半导体安装项目中取得成果,并为铝功率半导体冷却器技术做出了贡献

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摘要

昭和電工が参画する大阪大学の菅沼克昭教授のプロジェクトで、炭化ケイ素(SiC)パワー半導体が300℃の高温域でも安定的に動作する基板構造を開発した。このプロジェクトは、耐熱性に優れたSiCパワー半導体の基板構造の開発を目的に、菅沼教授が中心となって推進する産学連携のプロジェクト。菅沼教授はアルミニウムの耐熱特性に着目、アルミ材料と実装技術を開発し、-40℃から300℃の温度サイクル条件下でも欠陥が生じない材料構造を実現した。
机译:昭和电工参与的大阪大学杉沼胜明教授的一个项目开发了一种衬底结构,其中碳化硅(SiC)功率半导体即使在300°C的高温下也能稳定运行。该项目是由Suganuma教授领导的产学合作项目,旨在开发具有出色耐热性的SiC功率半导体的衬底结构。 Suganuma教授着眼于铝的耐热特性,开发了铝材料和安装技术,并实现了即使在-40°C至300°C的温度循环条件下也不会引起缺陷的材料结构。

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  • 来源
    《金属時評》 |2016年第2348期|共2页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 冶金工业;
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