超臨界CO_2微粉化装置SCスプレーヤ

摘要

微粒子製造技術のひとつとして，超臨界流体を用いた晶析法があります。 超臨界流体を目的物質の良溶媒として用いる急速膨張法（RESS法：Rapid Expansion of Supercritical Solutions）と逆に貧溶媒として用いるGAS法（Gas Anti-SoIvent）などがそれにあたります。 当社の超臨界CO_2微粉化装置SCスプレーヤは，超臨界二酸化炭素を使用し，RESS法およびGAS法から派生したASES法（AerosoI SoIvent Extraction System）の手法で，薬剤の微粒子製造試験を行う装置として開発しました。 本装置の説明と共に，本装置で得られた試験結果をあわせて報告します。