絶縁性Si_3N_4セラミックスの放電加工メカニズム

摘要

本研究では絶縁性Si_3N_4セラミックスの加工中に観察される長パルス放電に着目し，「①単発の長パルス放電の発生状況」，および「②連続放電における現象」について実験および波形解析をおこなった．本研究において加工対象とした絶縁性セラミックスの放電加工においては，放電電流は絶縁体の内部を通ることなく，表面に形成される導電性膜に沿って流れる．したがってその加工特性は絶縁体そのものの導電性には直接は左右されず，むしろ，加工の過程で逐次更新される導電性被膜の電気的特性およびその形成過程に強く依存すると考えられる．このことが絶縁性セラミックスの放電加工法の著しい特徴であると言える．