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低抵抗配線アルミナ多層パッケーヅを開発/携帯電話など次世代通信用デバイスへ展開

机译:开发低电阻的氧化铝多层封装/应用于手机等下一代通信设备

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摘要

京セラは,低抵抗の銅系導体をアルミナセラミックス上の配線に使用することができる「低抵抗配線アルミナ多層パッケ-ジ」を開発した。 この製品は低抵抗で高周波特性に優れた銅系導体の長所と,強度と熱放散性に優れたアルミナセラミックスの長所をあわせ持ち,使用する機器の回路設計の自由度を高めることができる。 今回の低抵抗配線アルミナ多層パッケージは導体抵抗が3mΩ/□で,従来のタングステン系導体を使用したアルミナ多層パッケージの導体抵抗10mΩ/□にくらべ大幅に導体抵抗を低減した。
机译:京瓷公司开发了一种“低电阻布线氧化铝多层封装”,该封装允许将低电阻铜导体用于氧化铝陶瓷的布线。该产品具有铜基导体低电阻和出色的高频特性的优势,以及氧化铝陶瓷具有出色的强度和散热性的优势,并且可以增加所用设备的电路设计自由度。这次的低电阻布线氧化铝多层封装的导体电阻为3mΩ/□,与使用常规钨基导体的氧化铝多层封装的10mΩ/□的导体电阻相比,该电阻显着降低。

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