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机译:在沉积的远程等离子体Al2O3原子层与6H SiC衬底之间的界面上进行远程NH3等离子体钝化
SiC; ALD Al2O3; Plasma Passivation.;
机译:在沉积的远程等离子体Al2O3原子层与6H SiC衬底之间的界面上进行远程NH3等离子体钝化
机译:远程等离子体原子层沉积所沉积的Al2O3薄膜的透湿势垒特性对射频等离子体功率的依赖性
机译:通过射频远程等离子体原子层沉积法沉积的Al2O3多密度层结构作为透湿屏障
机译:通过低温(300°C)的SiC-SiO_2界面形成的初始阶段通过低温(300°C)远程等离子体辅助氧化Si和C面上的平面和张开6小时
机译:使用远程等离子处理的栅极电介质和钝化层的氮化镓-电介质界面形成。
机译:利用远程等离子体原子层沉积系统沉积的HfO2薄膜对硅进行表面钝化
机译:远程等离子体增强原子层沉积氧化铪栅电介质的特性使用氧等离子体沉积