机译:在近阈值能量范围内通过氘离子溅射铍,钨,氧化钨和W-C混合层
beryllium; carbon deposition; low energy deuterium incidence; sputtering yield;
机译:在近阈值能量范围内通过氘离子溅射铍,钨,氧化钨和W-C混合层
机译:低能离子Ar〜+和N_2〜+与钨,铍和铍钨混合薄膜的室温和受热表面的碰撞
机译:在D_2和He的混合气氛中等离子溅射沉积钨层的结构和氘保留性质。
机译:非晶钨氧化物层的拉曼散射在室温照明下a-Si:H中氢的远距离运动的证据
机译:离子能和底物温度对钨中俘获氘的影响。
机译:三层三氧化钨石墨烯和聚苯胺复合膜用于组合储能和电致变色应用
机译:氘捕获在由氘等离子体溅射形成的钨沉积层中