机译:等离子蚀刻玻璃和玻璃陶瓷基板的蚀刻速率和表面形态
机译:等离子蚀刻玻璃和玻璃陶瓷基板的蚀刻速率和表面形态
机译:在KOH和异丙醇溶液饱和的KOH中蚀刻的硅(h k l)表面的蚀刻速率和形态
机译:沉积条件和基底形态对织构刻蚀玻璃上生长的溅射ZnO:Al电学性能的影响
机译:等离子体蚀刻玻璃基板的蚀刻速率和表面形态
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:HF蚀刻玻璃基板用于改进薄膜太阳能电池
机译:酒精添加剂浓度对KOH溶液中蚀刻的(100)和(110)Si衬底的蚀刻速率和表面形态的影响