机译:Ni和Cu的电化学沉积到单晶n-Si(100)晶片上以及Si / SiO2模板中的纳米孔中
P-SI(100) WAFERS; ELECTRODEPOSITION; SILICON; NUCLEATION; GROWTH; METALS; FILMS; SI;
机译:Ni和Cu的电化学沉积到单晶n-Si(100)晶片上以及Si / SiO2模板中的纳米孔中
机译:PbSe和CdTe纳米粒子的电化学沉积到p-Si(100)晶片上和SiO2 / Si(100)结构的纳米孔中
机译:在n-Si(100)晶片上SiO_2层中Au〜+离子的蚀刻轨迹中Te的电化学沉积和Se纳米粒子的化学沉积
机译:TE纳米粒子对单晶N-Si(100)晶片及SiO_(2)/ n-Si结构纳米孔的电化学沉积
机译:铜(Cu)和镍 - 铜(Ni-Cu)合金电沉积的计算模拟
机译:固体氧化物燃料电池M-BaZr0.1Ce0.7Y0.1Yb0.1O3-δ(M = PdCuNi或NiCu)阳极的电化学性能和抗碳沉积性
机译:室温下可见区域中已处理和未处理的单晶p-Si