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机译:稀HF溶液中硅晶片的电化学腐蚀动力学
Silicon; Electrochemistry; Corrosion; Hydrofluoric acid; Hydrogen; Infrared-spectroscopy; Surface-morphology; Electrolyte interface; Hydrogen termination; Anodic-dissolution; Semiconductors; Mechanism; Oxidation; Si(111);
机译:稀HF溶液中硅晶片的电化学腐蚀动力学
机译:稀HF溶液中有机酸对硅晶片上金属污染物的去除作用
机译:浸在稀HF溶液中的多晶硅氮化钛对的电偶腐蚀特性
机译:添加剂在稀释HF溶液对金属污染物和硅晶片中颗粒(PPT)中的影响
机译:I.水溶液中汞电极上一氧化二氮和亚硝酸的电化学二。铁(III)和铁(II)的2,2'-联吡啶络合物的电化学和水解动力学;多种铁络合物的电化学动力学参数。三,铀(IV)-水溶液(氧化氘)中铀(IV)-乙撑双氨基乙酸复合物的质子核磁共振研究
机译:光电效应加速了砷化镓晶片上的电化学腐蚀和纳米压印工艺
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学蚀刻制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:CO2诱导抑制稀释的HF溶液中铝,al-0.5%Cu和al-2%Cu的局部腐蚀。