机译:高纯单同位素硅烷的制备:〜(28)SiH_4,〜(29)SiH_4和〜(30)SiH_4
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机译:高纯单同位素硅烷的制备:〜(28)SiH_4,〜(29)SiH_4和〜(30)SiH_4
机译:通过蒸馏精制〜(28)SiH_4,〜(29)SiH_4和〜(30)SiH_4的单同位素硅烷
机译:氢依赖性表面形态学研究等离子体沉积SIN_X:H薄膜用于两个气体系统SIH_4 / NH_3和SIH_4 / N_2
机译:IRC + 10216包络的内层中包含大量28Si32S29Si32S28Si34S和30Si32S
机译:准确的ab initio非调谐力场和形成热量 硅烷,siH_4
机译:用Thermite反应制备高纯硅。最终报告,1979年10月1日至1980年11月30日