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Untersuchungen zu Abscheidungsanomalien im System chemisch NiP/Au

机译:NiP / Au化学体系中沉积异常的研究。

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摘要

Bleifreie Lotverbindungen erfordern neben den veranderten Lotlegierungszusammensetzungen (zinnreiche Lote) und Prozessparametern (erhohte thermische Belastung) auch geeignete Materialien fur die Verbindungsbildung sowohl auf Schaltungstrager- als auch auf Bauelementeseite. Aus diversen Industrieanfragen, eigenen Erfahrungen und Diskussionen lasst sich ableiten, dass hier insbesondere Leiterplattenoberflachen im Fokus stehen und zunehmend auch hinsichtlich moglicher Schwachstellen und Prozessfehler diskutiert werden. Der vorliegende Beitrag widmet sich verdeckten Abscheidungsanomalien bei der chemisch NiP/Au-Abscheidung. Es werden mit analytischen und darstellenden Verfahren typische Erscheinungsbilder aufgezeigt. Daruber hinaus werden ursachliche Zusammenhange dargestellt und ein Verfahren zur Analytik der Verbindungszone diskutiert.
机译:除了改变的焊料合金成分(富含锡的焊料)和工艺参数(增加的热负荷)之外,无铅焊料连接还需要在电路载体和组件侧均用于连接形成的合适材料。从各种行业查询,我们自己的经验和讨论中可以得出,这里的重点尤其是印刷电路板表面,并且关于可能的弱点和工艺错误的讨论也越来越多。本文讨论化学NiP / Au沉积中的隐藏沉积异常。使用分析和视觉过程显示典型外观。此外,给出了因果关系,并讨论了一种分析连接区域的方法。

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