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机译:HFCVD反应器中金刚石偏置增强成核过程中铱缓冲层的表面研究
Chemical vapour deposition; Iridium; Bias enhanced nucleation; X-Ray photoelectron spectroscopy; Auger electron spectroscopy; Graphite; Raman spectroscopy;
机译:HFCVD反应器中金刚石偏置增强成核过程中铱缓冲层的表面研究
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机译:在HFCVD反应器中,在Mo和CrN涂层的不锈钢基材上的偏压增强了金刚石成核作用
机译:甲烷浓度对3C-SiC(100)表面偏置增强成核期间金刚石成核和生长的影响
机译:类金刚石碳和金刚石成核的理论研究。
机译:自组装单层的生长从基材上解耦:使用缓冲层核心on-command
机译:偏压增强成核热丝化学气相沉积参数对铱上金刚石成核的影响
机译:HFCVD金刚石薄膜表面结构分析