机译:化学气相沉积金刚石膜的电性能和对X射线的电响应
Microwave plasma chemical vapor deposition; Electrical properties; Diamond films; Optoelectronic properties;
机译:化学气相沉积金刚石膜的电性能和对X射线的电响应
机译:微波辅助化学气相沉积三甲基硼在金刚石(100)衬底上合成的掺硼金刚石薄膜的表面形态和电性能
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机译:化学气相沉积法研究硼和硫共掺杂金刚石薄膜的微观结构和电性能
机译:掺杂氧化锌薄膜的大气压化学气相沉积及其电学和光学性质。
机译:吡啶化学气相沉积制得的氮掺杂石墨烯薄膜:工艺参数对电学和光学性质的影响
机译:(100)-/(001)取向的外延Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O 3-PbTiO3薄膜的晶体结构,电学性质和机械响应,是在金属(100)cSrRuO3∥(100)SrTiO3衬底上生长的有机化学气相沉积
机译:10-50 nm TEOs(四乙氧基硅烷)LpCVD(低压化学气相沉积)薄膜的电学特性