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【24h】

Dry HCI Gas Generation Unit

机译:干式HCL气体发生装置

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摘要

Graphite India(GI)dry HCI gas generation units are designed and manufactured for producing high purity HCI gas from 30-33% HCI solution.Moisture content in the gas is negligible which makes it versatile in use for many critical chemical reactions in process industries.In GI units,dry HCI gas is produced by distillation of hydrochloric acid.For this,two alternative routes are available and selection of route depends on the nature of by-product to suit individual customer's requirement.
机译:Graphite India(GI)干式HCl气体发生装置的设计和制造可从30%到33%的HCl溶液中生产高纯度的HCl气体,其中的水分含量可忽略不计,因此可广泛用于过程工业中的许多关键化学反应。在GI装置中,干燥的HCl气体是通过盐酸蒸馏而产生的。为此,有两种替代路线可供选择,路线的选择取决于副产品的性质,以满足个人客户的需求。

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