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Nichtinvasive Elektronendichtemessungen an technischen Plasmen mittels 26,5 GHz-Mikrowellen-Interferometrie

机译:使用26.5 GHz微波干涉仪对工业等离子体进行无创电子密度测量

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摘要

Die Diagnostik von technischen Plasmen mittels Mikrowellen-Interferometrie wird insbesondere im Vergleich zur traditionellen Langmuir-Sondendiagnostik diskutiert. Ein neuartiges Mikrowellen-Interferometer (MWI 2650) der JE PlasmaConsult GmbH wird vorgestellt, das auf starre Hohlleiter im Referenzarm verzichtet und stattdessen ein flexibles Koaxialkabel verwendet. Die direkte Anzeige der Elektronendichte sowie ein kalibrierter Ausgang zu einem Oszilloskop erleichtern die Bedienung des Gerates. Neben Messungen der Plasmadichte an chemisch reaktiven bzw. schichtabscheidenen Plasmen, bei denen Langmuirsonden prinzipbedingt Begrenzungen haben, konnen mit dem MWI 2650 auch zeitaufgeloste Messungen der Elektronendichte an gepulsten Plasmen mit hoher Empfindlichkeit durchgefuhrt werden. Mit diesem Gerat gelang es, einen Peak der Elektronendichte im Afterglow von elektronegativen bzw. staubigen Plasmen experimentell nachzuweisen. Eine spezielle Version des MWI 2650 ist auch fur die Diagnostik von Atmospharendruck-Plasmen geeignet.
机译:与传统的Langmuir探针诊断相比,特别讨论了通过微波干涉术对工业血浆的诊断。介绍了JE PlasmaConsult GmbH提供的新型微波干涉仪(MWI 2650),该干涉仪在参考臂中省去了刚性波导,而是使用了柔性同轴电缆。电子密度的直接显示和到示波器的校准输出使该设备易于使用。除了在Langmuir探针具有固有局限性的化学反应或沉积层等离子体上测量等离子体密度外,MWI 2650还可以用于以高灵敏度对脉冲等离子体进行时间分辨电子密度测量。使用该设备,可以通过实验检测出负电或尘埃等离子体余辉中电子密度的峰值。 MWI 2650的特殊版本也适用于大气压等离子体的诊断。

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