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首页> 外文期刊>Surface and Interface Analysis: SIA: An International Journal Devoted to the Development and Application of Techniques for the Analysis of Surfaces, Interfaces and Thin Films >In situ analysis using synchrotron radiation photoemission spectroscopy for initial oxidation of oxygen preadsorbed Si(001) surfaces induced by supersonic O-2 molecular beams (vol 34, pg 432, 2002)
【24h】

In situ analysis using synchrotron radiation photoemission spectroscopy for initial oxidation of oxygen preadsorbed Si(001) surfaces induced by supersonic O-2 molecular beams (vol 34, pg 432, 2002)

机译:使用同步加速器辐射光发射光谱法进行原位分析,以超声处理O-2分子束引起的氧预吸附的Si(001)表面的初始氧化(第34卷,第432页,2002年)

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