机译:双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)镁(II)及其三胺加合物的热稳定性和蒸气压在等离子体辅助LICVD法制备氧化镁薄膜中的作用
Coating; Chemical vapor deposition (CVD); Plasma-assisted liquid CVD; X-ray diffraction; Scanning electron microscopy (SEM); Thermal properties;
机译:双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)镁(II)及其三胺加合物的热稳定性和蒸气压在等离子体辅助LICVD法制备氧化镁薄膜中的作用
机译:借助气溶胶辅助金属有机化学从Ce(DPM)(4)和Sm(DPM)(3)(DPM = 2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)中沉积Sm2O3掺杂的CeO2薄膜气相沉积
机译:Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)钕对Nd2O3薄膜的直接液体注入金属有机化学气相沉积
机译:使用双(乙基环戊二烯基)镁前体的等离子体增强和热原子层沉积氧化镁膜的生长和膜性能
机译:双(4-氰基-2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)铜(II)的电子结构和自旋极化。
机译:洞察等离子体在二氧化钛薄膜的大气压化学气相沉积中的作用
机译:二聚体Tris的热转变(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚烷酯)铽(III)
机译:倾斜基底沉积生长氧化镁薄膜双轴织构发展的机理和加工依赖性