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机译:借助气溶胶辅助金属有机化学从Ce(DPM)(4)和Sm(DPM)(3)(DPM = 2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)中沉积Sm2O3掺杂的CeO2薄膜气相沉积
Univ Sci & Technol China, Dept Mat Sci & Engn, Hefei 230026, Peoples R China;
chemical vapor deposition; precursors; aersol assisted metal-organic; samarium-doped ceria; ULTRASONIC SPRAY-PYROLYSIS; OXIDE FUEL-CELL; MOCVD; ELECTROLYTE; GROWTH; ANODE;
机译:M(DPM)n(DPM = 2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮; n = 2,3,4)的分解行为
机译:气溶胶辅助MOCVD从Zr(DPM)_4和Y(DPM)_3沉积Y_2O_3稳定化的ZrO_2薄膜
机译:Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)钕对Nd2O3薄膜的直接液体注入金属有机化学气相沉积
机译:2,2,6,6-四甲基-2-锡施加3,5-庚烷型到铜的化学气相沉积,用于铜基互连应用。
机译:金属有机和气溶胶辅助化学气相沉积。硫化亚铜,二硫化钼/氧化钛和金属银薄膜的基于二硫代氨基甲酸酯和膦基硼酸酯配体的前体的开发和应用
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:具有Sr(DPM) 2 和Sr(HFA) 2 sub>的金属 - 有机化学气相沉积的金属 - 有机化学气相沉积的前体选择
机译:气溶胶辅助化学气相沉积铜:金属薄膜的液体输送方法。