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机译:通过添加过量Bi2O3的Bi4Ti3O12陶瓷作为源靶,改善了ITO玻璃上Bi4Ti3O12薄膜的特性
FLAT-PANEL DISPLAY; DEPOSITION; DEVICE;
机译:通过添加过量Bi2O3的Bi4Ti3O12陶瓷作为源靶,改善了ITO玻璃上Bi4Ti3O12薄膜的特性
机译:生长在Si和Pt / Ti / SiO2 / Si衬底上生长的Bi过量Bi4Ti3O12薄膜的微观结构和铁电性能
机译:通过射频溅射在增加的氧气压力下通过射频溅射沉积在硅衬底上的两层Bi4Ti3O12 /(BA,SR)TiO3薄膜的结构和电特性
机译:EU2O3掺杂Bi4Ti3O12薄膜的电气特性和微观结构
机译:热丝化学气相沉积法在玻璃上沉积的聚四氟乙烯薄膜的摩擦特性。
机译:Bi2O3 / TiO2 / SiO2 / Nd2O3 / Al2O3玻璃陶瓷中Bi4Ti3O12的取向淬火生长层
机译:勘误:“通过光学二次谐波产生探测铁电Bi4Ti3O12Bi4Ti3O12薄膜的畴微观结构”J.申请物理学。 89,1387(2001)